Julien CRAPELET
Avec 23 ans d’expérience en conception de masques photolithographiques, j’ai réalisé des designs complexes pour des applications de haute précision, allant des circuits hyperfréquences aux mires astronomiques.
Mon expertise technique m’a permis d’optimiser des processus, comme la vectorisation d’images pour une précision au micron près, la gestion de masques multicouches ou encore l’utilisation de l’IA pour améliorer le rendement.
J’ai développé des techniques avancées de simulation et contrôle qualité, notamment des méthodes d’alignement et de correction optique adaptées aux contraintes industrielles.
Grâce à mon travail, j’ai assuré un taux de conformité de 99,6 %, évitant ainsi les erreurs coûteuses et garantissant une production fluide. J’ai également collaboré avec des laboratoires, universités et industriels sur des projets innovants, notamment dans le domaine de la découpe et de l’optimisation de fabrication.
Après des années d’expertise au sein d’OPTIMASK, j’ai choisi de me lancer seul pour mettre mon savoir-faire au service de nouveaux défis, en totale autonomie.